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濕制成-顯影機
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  • 顯影機-半導體

顯影機-半導體

產品時間:2021-04-09 13:47:37

簡要描述:

特點:產品規(guī)格:寬10-400mm 片厚0.08-1.5mm蝕刻區(qū)精度0.075mm

詳細介紹

特點:

產品規(guī)格:寬10-400mm 片厚0.08-1.5mm

設備精度±0.075mm


 


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